人類文明的進步、生存條件的改善和生活方式的更替，無疑是由一次次重要的技術發(fā)明所推動。發(fā)明，既是對技術性問題提出創(chuàng)新性方案，也是以藝術智慧致力于技術與人類美好生活情感的相宜。4月26日正值世界知識產(chǎn)權日，由清華大學、中國科協(xié)科學技術傳播中心、中國科技館聯(lián)合主辦的“發(fā)明的精神——美國哈格利博物館與圖書館藏·19世紀美國專利模型展”巡展啟動儀式在清華大學藝術博物館舉行。
此次展覽由美國哈格利博物館與圖書館館長David Cole、清華大學美術學院副院長馬賽、清華大學藝術博物館副館長楊冬江等人聯(lián)合策劃，60件專利模型原件和1件由華盛頓總統(tǒng)親自簽批的專利批準文件帶領我們回顧科技與設計在美國歷史上如何交織在一起，給人們的生活乃至國家的命運帶來巨大改變。美國哈利格博物館與圖書館的經(jīng)典收藏品來自美國、英國、法國、加拿大、俄羅斯、瑞士、德國等十七個國家發(fā)明人的發(fā)明創(chuàng)造。這些專利模型，體現(xiàn)了發(fā)明人的創(chuàng)意和匠心，是技術發(fā)明的直觀呈現(xiàn)，同時，也包含了藝術智慧，堪稱藝術與科學結合的典范。
展廳中的陳設展柜被設計成柱狀，各式專利模型陳列其中，以機械原理制造的蛋糕機、印刷機、洗衣機、羊毛剪、陶器成型機、縫紉機等精美異常，同時配有該模型的詳細圖紙和專利批準文件，共同見證著工業(yè)技術向實用領域和日用生活產(chǎn)品轉化的歷史。展廳四周以簡要圖文訴說著美國專利制度的發(fā)展背景，在發(fā)明領域做出杰出貢獻的代表人物名言則被銘記其間，提醒著觀者以“發(fā)明的精神”繼續(xù)探索未知，思索未來。
1770年代，美國大力鼓勵國民勇于創(chuàng)新，進行發(fā)明創(chuàng)造。當時的美國專利制度是世界上唯一要求在專利申請時提交模型的制度。從1790年到1880年，美國專利局要求專利申請人提交其發(fā)明的按比例縮小的模型，并附上書面描述以及圖紙，以便專利局審查。1790年4月12日，美國總統(tǒng)喬治·華盛頓簽署了美國歷史上第一個專利法。專利制度被視為影響美國經(jīng)濟增長和安全的重要因素，在1836年之前，所有專利的授權都由總統(tǒng)簽署。
據(jù)David Cole介紹，專利模型的實際意義在于闡釋創(chuàng)新發(fā)明的關鍵要素，即實用性和新穎性。它們展現(xiàn)的是各行業(yè)及消費者利益的發(fā)明，涉及農(nóng)業(yè)、食品保鮮、家居用品、機械、海洋科技、醫(yī)藥、印刷、紡織、工具、玩具、交通等行業(yè)。但模型在設計中也考慮到了美觀因素，規(guī)定模型任意一邊通常不超過30.48厘米，且多由專業(yè)工匠打造。由此可見，專利模型是實用想法的具象體現(xiàn)，但同時也是一件件藝術杰作。
“每個人都是發(fā)明家，在探索的航行中各自揚帆，每個人都有一張自己的地圖，沒有任何兩張完全相同。世界中到處有門徑，到處是機遇。”正如愛默生所言，雖然發(fā)明家背景迥異，但他們對創(chuàng)新有著共同的熱情。盡管他們之中的大多數(shù)僅僅是出于解決問題和改善日常生活條件的愿望，但獲得美國專利使他們充滿成就感與榮耀。
清華大學美術學院院長魯曉波表示，本次展覽的展品，大多為普通百姓在生活中產(chǎn)生的發(fā)明創(chuàng)造，關乎人們?nèi)粘Ｉ罡鱾€領域，這恰好與清華大學美術學院以設計服務于人的“衣食住行”的學院方針不謀而合。時代的巨變帶來生產(chǎn)方式的轉變，科技的飛速進步影響著人類的生存與發(fā)展。發(fā)明創(chuàng)新被提高到國家戰(zhàn)略的層面，以設計驅動創(chuàng)新已成為藝術設計學科的重要責任。我們倡導學科交叉融合，科學與藝術相結合，用智慧和情感構建未來。
位于美國特拉華州維明頓市的哈格利博物館與圖書館由E.I.杜邦先生在1802年創(chuàng)建，它的收藏涵蓋了美國早期工業(yè)發(fā)展，創(chuàng)造發(fā)明的歷史及各企業(yè)豐富的史料。目前哈格利博物館與圖書館收藏了近5000件美國18和19世紀的專利模型，此次展覽是美國哈格利博物館與圖書館的專利模型首次出國展覽，也是美國專利模型的首次中國展出。展覽由哈格利博物館與圖書館同清華大學美術學院共同策劃，清華大學美術學院師生團隊聯(lián)合設計。此次合作反映了哈格利博物館和清華大學之間通過人員交往、思想和技術交流而建立的深厚友誼，將對雙方和各自所代表的國家產(chǎn)生長期積極的影響。
縱觀人類近現(xiàn)代歷史，發(fā)明創(chuàng)造事業(yè)與一個國家的命運緊密相連。李克強總理提出的“大眾創(chuàng)業(yè)、萬眾創(chuàng)新”被視為中國新常態(tài)下經(jīng)濟發(fā)展“雙引擎”之一。據(jù)悉“發(fā)明的精神：美國哈格利博物館與圖書館藏·19世紀美國專利模型展”首站在清華大學藝術博物館將展至5月6日，隨后將開啟深圳、上海、武漢等地的巡展。
巡展啟動儀式后，“清華大學吳冠中藝術與科學創(chuàng)新獎學金2017年度頒獎典禮”舉行。該獎學金的設立旨在鼓勵探索中國藝術與科學教育融合之路，促進藝術思維與科學思維的互動與互補，加強藝術與科學、真理與美的內(nèi)在聯(lián)系，推動中國未來藝術與科學的發(fā)展，助力清華大學培養(yǎng)復合型的藝術與科學創(chuàng)新人才。2017年度共有7位同學獲獎。
同期，“專利質量與專利制度改革”研討會在清華大學藝術博物館舉辦。近年來，中國專利數(shù)量迅速增長舉世矚目，專利質量提升的迫切性隨之凸顯。研討會上，國內(nèi)外知識產(chǎn)權領域的專家齊聚，從專利客體界定、審查程序完善、產(chǎn)業(yè)政策創(chuàng)新等方面提出具體的提升專利質量的建議。(光明融媒記者 田呢)
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